duv和euv技术区别
DUV是深紫外线（DeepUltravioletLithography），EUV是极深紫外线（ExtremeUltravioletLithography）。从制程范围来看，DUV基本上只能做到25nm，Intel凭借双工作台的模式做到了10nm，但是却无法达到10nm以下。只有EUV能满足10nm以下的...
关于euv的精选
euv光刻机原理
euv光刻机原理是接近或接触式光刻通过无限靠近，复制掩模板上的图案；直写式光刻是将光束聚焦为一点，通过运动工件台或镜头扫描实现任意图形加工。投影式光刻因其高效率、无损伤的优点，是集成电路主流光刻技术。光刻机（MaskA...